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J-GLOBAL ID:200903084560534358

水素リッチガスを製造する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 江崎 光史 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999012330
Publication number (International publication number):1999278803
Application date: Jan. 20, 1999
Publication date: Oct. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】 改質触媒の存在下にジメチルエーテルを水素に富んだ生成ガスに水蒸気改質することによって、ジメチルエーテルおよび/またはメタノールを含有する供給源から水素リッチガスを製造する方法を提供する。【解決手段】 吸熱水蒸気改質反応に必要な熱量が、水蒸気改質された供給源に含まれる水素の一部の酸化によって、水蒸気改質反応と熱伝導性の関係において供給される。
Claim (excerpt):
改質触媒の存在下にジメチルエーテルを水素に富んだ生成ガスに水蒸気改質することによって、ジメチルエーテルおよび/またはメタノールを含有する供給源から水素リッチガスを製造する方法において、吸熱水蒸気改質反応に必要な熱量が、水蒸気改質された供給源に含まれる水素の一部の酸化によって、水蒸気改質反応と熱伝導性の関係において供給されることを特徴とする上記方法。
IPC (5):
C01B 3/32 ,  B01J 19/00 ,  B01J 23/38 ,  C01C 1/04 ,  C07C273/04
FI (5):
C01B 3/32 Z ,  B01J 19/00 E ,  B01J 23/38 M ,  C01C 1/04 D ,  C07C273/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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