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J-GLOBAL ID：200903030010937436

化学増幅ポジ型レジスト材料

Inventor： 畠山 潤 ,  名倉 茂広 ,  石原 俊信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996111309
Publication number (International publication number)：1997274312
Application date： Apr. 08, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外線、電子線、X線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、特に高解像性で、かつPEDによるパターンのT-トップ形状或いは基板面での裾引きを解消するアルカリ水溶液で現像することによりパターン形成できる微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料を得る。【解決手段】 (1)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2Torr未満である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種と、(2)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2〜100Torrの範囲である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種とを配合する。(A)有機溶剤と、(B)ベース樹脂と、(C)酸発生剤と、(D)上記窒素含有有機化合物(1)及び(2)の混合物を配合して化学増幅ポジ型レジスト材料を調製する。

Claim (excerpt)：

(1)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2Torr未満である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種と、(2)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2〜100Torrの範囲である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種とを含有してなることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

IPC (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-073169   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-148742   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特開昭63-237053
  
• 感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-209404   Applicant：日本合成ゴム株式会社