パターン読み取り装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松岡修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996342776
Publication number (International publication number)：1998171974
Application date： Dec. 06, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】照明光の一部が対物レンズのレンズ面で反射されてゴースト光となるため、このゴースト光が読み取り対象であるパターンの結像位置に達した場合、パターン像のコントラストが低下して読み取り精度が悪くなるという問題がある。【解決手段】照明部10から発した光は対物レンズ20を透過することにより平行光となり、シリコンウェハー1の表面1aを斜め方向から照明する。表面1aで反射された光束は、再度対物レンズ20を透過して検出部30側に向かう収束光となり、空間フィルター31に達する。表面1aからの反射光のうち空間フィルター31を透過した散乱反射成分は、結像レンズ32を介して撮像素子33上に表面1aに刻印されたパターンの強調像を形成する。対物レンズ20は、その光軸に垂直な回動軸Rx回りに回動調整可能であり、ゴースト光がパターン像に重ならないよう調整することができる。

Claim (excerpt)：

光源から発した光束を対物レンズを介して読み取り対象であるパターンが付された対象面に入射させ、前記対象面で反射された光を対物レンズを介して収束させると共に、結像レンズにより前記パターンの像を形成して読み取るパターン読み取り装置において、前記対物レンズを、前記対物レンズの光軸に対して垂直な回動軸回りに回動可能に支持するティルト機構を備えることを特徴とするパターン読み取り装置。

IPC (2)：

G06T 1/00 , G01N 21/88

FI (2)：

G06F 15/64 320 C , G01N 21/88 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開昭52-132851
特開昭62-038303
欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-344244 Applicant：セイコー電子工業株式会社, 住友セメント株式会社

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