感光性ポリシラザン組成物及びパタ-ン化されたポリシラザン膜の形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999283106
Publication number (International publication number)：2000181069
Application date： Oct. 04, 1999
Publication date： Jun. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】ポジ型レジストとして使用することができる感光性ポリシラザン組成物を提供すること。【解決手段】ポリシラザン、特にポリメチルシラザン又はポリフェニルシラザンと光酸発生剤とを含む感光性ポリシラザン組成物。

Claim (excerpt)：

ポリシラザンと光酸発生剤とを含む感光性ポリシラザン組成物。

IPC (6)：

G03F 7/075 511 , C08K 5/14 , C08L 83/16 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/075 511 , C08K 5/14 , C08L 83/16 , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/039 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

絶縁膜パターンの形成方法および感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-233199 Applicant：株式会社東芝
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-040933 Applicant：株式会社日立製作所
重合体、レジスト樹脂組成物、及びそれらを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-219541 Applicant：昭和電工株式会社

Show all

Return to Previous Page