新規な低次酸化チタンおよびその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：望月孜郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002300445
Publication number (International publication number)：2004137087
Application date： Oct. 15, 2002
Publication date： May. 13, 2004
Summary：

【課題】二酸化チタンの結晶構造を保持したままで、その一部の酸素原子の脱離した、酸素吸収能力が大きく、かつ光触媒作用を有し、酸素吸収剤を含む品質保持剤などに有用な新規な低次酸化チタンを提供すること。【解決手段】本発明は、二酸化チタンのオリジナルの結晶構造を保持し、一般式TiO2-x(ここで、xは0.1から0.5の実数を示す)で表される化学構造を有する、新規な低次酸化チタン、及び、硫酸根及び/又はニッケル種を含む低次酸化チタン複合体、並びにその製造方法を提供するものである。二酸化チタンはアナターゼ型が好ましい。この低次酸化チタンは、硫酸根及び/又はニッケル種を含む二酸化チタンを、350°C以下の温度で還元剤を用いて還元することによって製造することができる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

二酸化チタンの結晶構造を保持し、一般式TiO2-x(ここで、xは0.1から0.5の実数を示す)の化学式で表されるものであることを特徴とする低次酸化チタン。

IPC (2)：

C01G23/047 , B01J35/02

FI (2)：

C01G23/047 , B01J35/02 J

F-Term (33)：

4G047CA02 , 4G047CB04 , 4G047CC03 , 4G047CD07 , 4G069AA02 , 4G069AA08 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069BB01C , 4G069BB10A , 4G069BB10B , 4G069BC68A , 4G069BC68B , 4G069BD01C , 4G069BD02A , 4G069BD02B , 4G069BD02C , 4G069BD08A , 4G069BD08B , 4G069CA10 , 4G069DA05 , 4G069EC22X , 4G069EC22Y , 4G069EC27 , 4G069FA01 , 4G069FA08 , 4G069FB09 , 4G069FB14 , 4G069FB44 , 4G069FC04 , 4G069FC07 , 4G069FC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

低次酸化チタン含有粉体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-017904 Applicant：株式会社資生堂
品質保持剤及びその使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-180644 Applicant：工業技術院長, 丸勝産業株式会社, 垰田博史, 渡辺栄次, 野浪亨, 深谷光春
多孔質球状酸化チタン粒子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-139517 Applicant：三菱マテリアル株式会社

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