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J-GLOBAL ID：200903031235099630

レジスト組成物の製造方法

Inventor： 花元 幸夫
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000173377
Publication number (International publication number)：2001350266
Application date： Jun. 09, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 保存安定性に優れたフォトレジストを提供する。【解決手段】 バインダー成分、酸発生剤及び溶剤を含有する粗レジスト組成物を、正のゼータ電位を有するフィルターに通過させることを特徴とするフォトレジスト組成物の製造方法。

Claim (excerpt)：

バインダー成分、酸発生剤及び溶剤を含有する粗レジスト組成物を、正のゼータ電位を有するフィルターに通過させることを特徴とするフォトレジスト組成物の製造方法。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (18)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB00 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025EA01 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ネガ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-347019   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ビニルフェノール系重合体の金属除去法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-333459   Applicant：丸善石油化学株式会社
• ビニルフェノール系重合体の金属除去法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-054119   Applicant：丸善石油化学株式会社
• 水酸基が保護されたフェノール性化合物の精製方法、及びこれを用いた感放射線組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-188471   Applicant：三菱化学株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-307366   Applicant：富士写真フイルム株式会社