Pat
J-GLOBAL ID：200903042269266309
化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999307366
Publication number (International publication number)：2001125269
Application date： Oct. 28, 1999
Publication date： May. 11, 2001
Summary：
【要約】【課題】塗布性・保存安定性を有し、高感度で感度安定性に優れた、酸発生剤と酸分解性樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物を得る。【解決手段】酸発生剤と酸分解性樹脂を含有するレジスト溶液を、材質としてポリエチレン、ナイロンまたはポリスルホンを含有するフィルターを用いて濾過して化学増幅型レジスト組成物を得る。
Claim (excerpt)：
酸発生剤と酸分解性樹脂を含有するレジスト溶液を、材質としてポリエチレン、ナイロンまたはポリスルホンを含有するフィルターを用いて濾過して得たことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
F-Term (13)：
2H025AA01
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025EA01
Cited by examiner (7)
Show all
Article cited by the Patent：
Return to Previous Page
