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J-GLOBAL ID：200903042269266309

化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 白川 浩司 ,  佐藤 健一郎 ,  上西 一也
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999307366
Publication number (International publication number)：2001125269
Application date： Oct. 28, 1999
Publication date： May. 11, 2001
Summary：

【要約】【課題】塗布性・保存安定性を有し、高感度で感度安定性に優れた、酸発生剤と酸分解性樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物を得る。【解決手段】酸発生剤と酸分解性樹脂を含有するレジスト溶液を、材質としてポリエチレン、ナイロンまたはポリスルホンを含有するフィルターを用いて濾過して化学増幅型レジスト組成物を得る。

Claim (excerpt)：

酸発生剤と酸分解性樹脂を含有するレジスト溶液を、材質としてポリエチレン、ナイロンまたはポリスルホンを含有するフィルターを用いて濾過して得たことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

F-Term (13)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025EA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 化学増幅型のポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-012407   Applicant：住友化学工業株式会社
• レジスト溶液およびその調製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-034900   Applicant：日本ゼオン株式会社
• 陽性フォトレジスト製造用共重合体およびこれを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-096482   Applicant：クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
• 感放射線組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-011293   Applicant：三菱化学株式会社
• ホトレジスト溶液供給方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-186607   Applicant：東京応化工業株式会社
• 高分子型アセタール系溶解阻害剤の製造方法、この製造方法により得られた溶解阻害剤及びポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-063282   Applicant：日立化成工業株式会社
• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-032512   Applicant：三菱化学株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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