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J-GLOBAL ID:200903031335477209

導電膜、低反射性導電膜およびその形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995295981
Publication number (International publication number):1997115438
Application date: Oct. 20, 1995
Publication date: May. 02, 1997
Summary:
【要約】【課題】 低温熱処理により形成が可能な高性能導電膜および低反射導電膜を新規に提供すること。【課題解決手段】 特定の金属群から選ばれる少なくとも1種の金属微粒子のゾルを含む塗布液を基体上に塗布して加熱することを特徴とする導電膜の形成方法。
Claim (excerpt):
Ag、Ru、Re、Ir、Os、Pt、Rh、Pd、Ni、Co、Sn、Cr、AuおよびInからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属微粒子のゾルを含む塗布液を基体上に塗布して加熱することを特徴とする導電膜の形成方法。
IPC (4):
H01J 9/20 ,  H01J 29/88 ,  H01J 29/89 ,  H05K 9/00
FI (5):
H01J 9/20 A ,  H01J 29/88 ,  H01J 29/89 ,  H05K 9/00 W ,  H05K 9/00 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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