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J-GLOBAL ID:200903031851524205

酸化物透明導電性薄膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000226627
Publication number (International publication number):2002042583
Application date: Jul. 27, 2000
Publication date: Feb. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】高価な真空装置や厳密な製造条件の制御を必要とすることなく組成制御が可能な酸化物透明導電性薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 高分子重合体配位子が金属に配位されてなる高分子金属錯体の溶液を基板に塗布し、その塗膜を焼成する金属酸化物薄膜の製造方法である。
Claim (excerpt):
高分子重合体配位子が金属に配位されてなる高分子金属錯体の溶液を基板に塗布し、その塗膜を焼成することを特徴とする酸化物透明導電性薄膜の製造方法。
IPC (5):
H01B 13/00 503 ,  B05D 3/02 ,  B05D 5/12 ,  C01G 19/00 ,  C23C 18/12
FI (5):
H01B 13/00 503 B ,  B05D 3/02 Z ,  B05D 5/12 B ,  C01G 19/00 A ,  C23C 18/12
F-Term (16):
4D075CA22 ,  4D075DA06 ,  4D075DC21 ,  4K022AA03 ,  4K022AA41 ,  4K022BA10 ,  4K022BA15 ,  4K022BA21 ,  4K022BA25 ,  4K022BA33 ,  4K022DA06 ,  5G323BA04 ,  5G323BB01 ,  5G323BB02 ,  5G323BB06 ,  5G323BC01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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