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J-GLOBAL ID：200903031971195019

有機薄膜素子の製造方法及びそれに用いる転写材料及び装置

Inventor：
立石 朋美

About 立石 朋美

, 
柴田 剛

About 柴田 剛


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 高石 橘馬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001089663
Publication number (International publication number)：2002289346
Application date： Mar. 27, 2001
Publication date： Oct. 04, 2002
Summary：
【要約】【課題】 湿式法を用いて形成した複数の均一な有機薄膜層を転写することにより、発光効率、発光量の均一性及び耐久性に優れた有機EL素子等の有機薄膜素子を効率良く製造する方法を提供する。【解決手段】 仮支持体111上に湿式法により有機薄膜層112を形成することにより転写材料110を作製し、有機薄膜層112側が基板100の被成膜面に対面するように転写材料110を基板100に重ねて加熱し、仮支持体111を引き剥がすことにより有機薄膜層112を基板100の被成膜面に転写する有機薄膜素子の製造方法において、同一又は異なる組成の有機薄膜層112を有する2種以上の転写材料110を使用するか、同一又は異なる組成の2種以上の有機薄膜層112を有する転写材料110を使用することにより、基板100上に2種以上の有機薄膜層112を転写する。
Claim (excerpt)：
仮支持体上に湿式法により有機薄膜層を形成することにより転写材料を作製し、前記有機薄膜層側が基板の被成膜面に対面するように前記転写材料を前記基板に重ねて加熱し、前記仮支持体を引き剥がすことにより前記有機薄膜層を前記基板の被成膜面に転写する有機薄膜素子の製造方法において、同一又は異なる組成の有機薄膜層を有する2種以上の転写材料を使用するか、同一又は異なる組成の2種以上の有機薄膜層を有する転写材料を使用することにより、前記基板上に2種以上の有機薄膜層を転写することを特徴とする有機薄膜素子の製造方法。
IPC (4)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (5)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 D ,  H05B 33/22 B
F-Term (9)：
3K007AB03 ,  3K007AB18 ,  3K007BB01 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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