オキソアルキル基を有するスルホニウム塩化合物、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金田暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999374981
Publication number (International publication number)：2001187780
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明は130nm以上220nm以下の遠紫外光を用いたリソグラフィ用のフォトレジスト組成物において露光光に対し透明性が高く、感度の良い光酸発生剤を提供することを課題とする。【解決手段】下記の一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物を光酸発生剤として用いることにより解決される。【化1】(但し、R1、R2は各々独立してオキソ基を有する直鎖状、分岐状あるいは単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、R3は直鎖状、分岐状、単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、Y-は対イオンを表す)

Claim (excerpt)：

下記の一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物。【化1】(但し、R1、R2は各々独立してオキソ基を有する直鎖状、分岐状、単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、R3は直鎖状、分岐状、単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、Y-は対イオンである。)

IPC (3)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601

FI (3)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601

F-Term (16)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CB41 , 2H025CC17 , 4H006AA01 , 4H006AB76 , 4H006TN40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

橋かけ環式アルキル基を有するスルホニウム塩化合物、光酸発生剤、それを含有する感光性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-162244 Applicant：日本電気株式会社
橋かけ環式アルキル基を有する光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-116980 Applicant：日本電気株式会社
特開昭57-102921

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