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J-GLOBAL ID:200903032359474754

強誘電体容量絶縁膜用積層電極およびこれを用いた強誘電体容量素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996183229
Publication number (International publication number):1998027888
Application date: Jul. 12, 1996
Publication date: Jan. 27, 1998
Summary:
【要約】【課題】 PZT等の強誘電体容量絶縁膜に、電極としてのRuO2 等の導電性セラミックス膜を形成する際の、強誘電体容量絶縁膜構成原子の拡散による組成ずれを防止する。【解決手段】 強誘電体容量絶縁膜4と導電性セラミックス膜2との間に、白金薄膜3を介在させる。【効果】 白金薄膜3が拡散バリアとなり、熱処理時における強誘電体容量絶縁膜4からのPbやBa等の拡散が防止され、誘電体特性の劣化が防止される。白金薄膜3は極く薄いので、イオンミリング等により容易にパターニングされ、微細加工性にも優れる。
Claim (excerpt):
強誘電体容量絶縁膜の上部電極および下部電極の少なくとも何れか一方に、導電性セラミックス膜を用いた電極であって、前記強誘電体容量絶縁膜と前記導電性セラミックス膜との間に、白金薄膜を有することを特徴とする強誘電体容量絶縁膜用積層電極。
IPC (11):
H01L 27/108 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 21/8247 ,  H01L 29/788 ,  H01L 29/792 ,  H01L 37/02
FI (7):
H01L 27/10 651 ,  H01L 21/28 301 R ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 37/02 ,  H01L 21/88 Q ,  H01L 27/04 C ,  H01L 29/78 371
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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