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J-GLOBAL ID:200903032359474754
強誘電体容量絶縁膜用積層電極およびこれを用いた強誘電体容量素子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996183229
Publication number (International publication number):1998027888
Application date: Jul. 12, 1996
Publication date: Jan. 27, 1998
Summary:
【要約】【課題】 PZT等の強誘電体容量絶縁膜に、電極としてのRuO2 等の導電性セラミックス膜を形成する際の、強誘電体容量絶縁膜構成原子の拡散による組成ずれを防止する。【解決手段】 強誘電体容量絶縁膜4と導電性セラミックス膜2との間に、白金薄膜3を介在させる。【効果】 白金薄膜3が拡散バリアとなり、熱処理時における強誘電体容量絶縁膜4からのPbやBa等の拡散が防止され、誘電体特性の劣化が防止される。白金薄膜3は極く薄いので、イオンミリング等により容易にパターニングされ、微細加工性にも優れる。
Claim (excerpt):
強誘電体容量絶縁膜の上部電極および下部電極の少なくとも何れか一方に、導電性セラミックス膜を用いた電極であって、前記強誘電体容量絶縁膜と前記導電性セラミックス膜との間に、白金薄膜を有することを特徴とする強誘電体容量絶縁膜用積層電極。
IPC (11):
H01L 27/108
, H01L 21/8242
, H01L 21/28 301
, H01L 21/3205
, H01L 27/04
, H01L 21/822
, H01L 27/10 451
, H01L 21/8247
, H01L 29/788
, H01L 29/792
, H01L 37/02
FI (7):
H01L 27/10 651
, H01L 21/28 301 R
, H01L 27/10 451
, H01L 37/02
, H01L 21/88 Q
, H01L 27/04 C
, H01L 29/78 371
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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半導体集積回路コンデンサおよびその電極構造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-097071
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-198422
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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マイクロ電子構造体とその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-196766
Applicant:テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
-
強誘電体キャパシタと、強誘電体キャパシタ及び強誘電体膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-047863
Applicant:日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
-
電子部品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-072677
Applicant:株式会社東芝
-
半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-087841
Applicant:株式会社日立製作所
-
強誘電体記憶素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-167525
Applicant:シャープ株式会社
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