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J-GLOBAL ID:200903032665561237
標準ガスの調整方法及び装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松田 大
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000314825
Publication number (International publication number):2002122587
Application date: Oct. 16, 2000
Publication date: Apr. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高分子量有機成分の任意の低濃度ガスを安定して得ることができる標準ガスの調整方法と装置を提供する。【解決手段】 高分子量有機成分の標準ガスを調整する方法において、恒温槽2と、該恒温槽内に設置された、高分子量有機成分を入れた試料容器3と、該試料容器からの気体状の高分子量有機成分を希釈する希釈容器6と、前記試料容器3及び希釈容器6にそれぞれ温度調整された気体を送る温度調整管4、5を有する配管経路8-1、8-2と、温度調整され希釈された標準ガスを取り出す配管経路9を有するものであり、前記希釈容器は多段に設けることができ、また、水分濃度を調整するための加湿器を配管経路8-2に設けてもよい。
Claim (excerpt):
高分子量有機成分の標準ガスを調整する方法において、恒温槽内で、温度調整された気体を、高分子量有機成分を入れた試料容器に送ると共に、該試料容器から発生させた気体状の高分子量有機成分を希釈する希釈容器に送り、該希釈容器から均一に温度調整され希釈された標準ガスを得ることを特徴とする高分子量有機成分の標準ガスの調整方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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標準ガス希釈装置、標準ガス発生装置及び標準ガス発生用液体試料容器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-348740
Applicant:株式会社日本エイピーアイ
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環境試験装置と試験槽の湿度調整方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-207767
Applicant:富士通株式会社
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微量液体連続霧化装置及びこれを使用した標準ガス発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-415232
Applicant:独立行政法人農業環境技術研究所
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標準ガス調製方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-298097
Applicant:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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被膜の被覆性評価装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-173187
Applicant:富士通株式会社
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Article cited by the Patent:
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