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J-GLOBAL ID:200903032857725950

静電チャック装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外9名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998283126
Publication number (International publication number):2000114358
Application date: Oct. 05, 1998
Publication date: Apr. 21, 2000
Summary:
【要約】【課題】 側面からの侵食を防ぎ、絶縁破壊を防止し、耐久性能の高い静電チャック装置。【解決手段】 金属基盤12上に、少なくとも電気絶縁層14と電極18と吸着層22とが積層された静電チャック装置において、その側面に侵食防止絶縁物42が設けられている。静電チャック装置をエッチング処理等に供しても、その側面からの侵食を抑制でき、侵食欠損部の形成を防ぐことのできる耐プラズマ性、耐エッチング性に優れ、絶縁破壊を防止し、耐久性能が高い。
Claim (excerpt):
金属基盤上に、少なくとも電気絶縁層と電極と吸着層とが積層された静電チャック装置において、その側面に侵食防止絶縁物が設けられていることを特徴とする静電チャック装置。
IPC (3):
H01L 21/68 ,  H02N 13/00 ,  B23Q 3/15
FI (3):
H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D ,  B23Q 3/15 D
F-Term (5):
3C016GA10 ,  5F031CA02 ,  5F031HA16 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
  • 耐腐食性静電チャック
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-285983   Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
  • 静電チャック
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-062325   Applicant:信越化学工業株式会社
  • ゴム系接着剤組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-208528   Applicant:日立化成工業株式会社
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