Pat
J-GLOBAL ID:200903033159525830
加工方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
稲葉 良幸 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000019948
Publication number (International publication number):2001105398
Application date: Jan. 28, 2000
Publication date: Apr. 17, 2001
Summary:
【要約】【課題】基板に微細な穴を形成する。【解決手段】基板にエッチングパターン(エッチングにより除去される領域)を記録し、前記エッチングパターン内に加工先穴を形成し、前記エッチングパターンに従って等方性エッチングを行い、穴を形成する。基板が感光性ガラスの場合、感光性ガラス基板101の上にフォトマスク102を所定の位置に配置し、紫外線106を照射し、潜像105が形成される。次に感光性ガラス基板101を加熱処理をすると潜像105が結晶化する。潜像105が形成された部分の中央に潜像105より小さい加工先穴107をレーザ光により形成する。次にフッ酸によりエッチングする。結晶化された部分が選択的にエッチングされ、穴108が形成できる。
Claim (excerpt):
部材内を等方性エッチングにより選択的に除去する加工方法であって、エッチングにより除去される領域に、等方性エッチングに先立って加工先穴を形成しておくことを特徴とする加工方法。
IPC (4):
B81C 1/00
, B23K 26/00 330
, C03C 15/00
, G03F 7/40 521
FI (4):
B81C 1/00
, B23K 26/00 330
, C03C 15/00 F
, G03F 7/40 521
F-Term (21):
2H096AA27
, 2H096AA28
, 2H096AA30
, 2H096BA13
, 2H096EA02
, 2H096FA01
, 2H096FA10
, 2H096HA17
, 2H096HA18
, 2H096JA03
, 2H096JA04
, 4E068AA01
, 4E068CF02
, 4E068DA14
, 4E068DB13
, 4G059AA01
, 4G059AB01
, 4G059AB06
, 4G059AC01
, 4G059BB04
, 4G059BB08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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