Pat
J-GLOBAL ID:200903033448783309
半導体DNAセンシングデバイス及びDNAセンシング方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006057706
Publication number (International publication number):2007232683
Application date: Mar. 03, 2006
Publication date: Sep. 13, 2007
Summary:
【解決手段】半導体上に反応ゲート絶縁部としてシリコン酸化物又は無機酸化物を含む第1の絶縁層が形成された電界効果型トランジスタの上記第1の絶縁層の上に、反応性官能基を有する有機分子で構成された第1の有機単分子膜を形成し、該第1の有機単分子膜に塩基数3〜35の短鎖プローブDNAを上記反応性官能基を介して、直接又は架橋分子を介して結合させてなる、プローブDNA/有機単分子膜/絶縁層/半導体構造を検出部として備える半導体DNAセンシングデバイス。【効果】本発明の半導体DNAセンシングデバイスは、オンチップでの高感度マイクロマルチDNAセンシングデバイスとして非常に効果的な半導体デバイスであり、これを用いた集積化デバイスは、一塩基多型等のミスマッチ配列のDNA解析を高精度に可能とするセンシング特性を有するものであり、高度な医療の提供・テーラーメード医療に有効である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
半導体上に反応ゲート絶縁部としてシリコン酸化物又は無機酸化物を含む第1の絶縁層が形成された電界効果型トランジスタの上記第1の絶縁層の上に、反応性官能基を有する有機分子で構成された第1の有機単分子膜を形成し、該第1の有機単分子膜に塩基数3〜35の短鎖プローブDNAを上記反応性官能基を介して、直接又は架橋分子を介して結合させてなる、プローブDNA/有機単分子膜/絶縁層/半導体構造を検出部として備えることを特徴とする半導体DNAセンシングデバイス。
IPC (6):
G01N 27/414
, H01L 29/78
, G01N 37/00
, G01N 27/00
, G01N 27/416
, G01N 33/53
FI (7):
G01N27/30 301V
, H01L29/78 301U
, G01N27/30 301Y
, G01N37/00 102
, G01N27/00 J
, G01N27/46 386Z
, G01N33/53 M
F-Term (24):
2G060AA06
, 2G060AC10
, 2G060AE40
, 2G060AF15
, 2G060AG10
, 2G060DA02
, 2G060DA04
, 2G060DA12
, 2G060DA15
, 2G060FA05
, 2G060FA07
, 2G060FA09
, 2G060HC10
, 2G060HC18
, 2G060HD03
, 2G060KA05
, 5F140AA00
, 5F140AC37
, 5F140BA01
, 5F140BD04
, 5F140BF03
, 5F140BF13
, 5F140BF21
, 5F140BF23
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
半導体センシングデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-084200
Applicant:学校法人早稲田大学
-
バイオセンシング方法及び固定化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-321535
Applicant:学校法人早稲田大学
-
遺伝子検出電界効果デバイスおよびこれを用いた遺伝子多型解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-026821
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
Cited by examiner (3)
-
遺伝子検出電界効果デバイスおよびこれを用いた遺伝子多型解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-026821
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
-
半導体センシングデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-084200
Applicant:学校法人早稲田大学
-
生体および化学試料検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-260769
Applicant:株式会社日立製作所
Return to Previous Page