多結晶酸化セリウム粉末、その製造法、該粉末の使用、該粉末を含有する分散液および該粉末の製造法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004233631
Publication number (International publication number)：2005060222
Application date： Aug. 10, 2004
Publication date： Mar. 10, 2005
Summary：

【課題】半導体基板を研磨するための分散液の成分として適当であり、簡単に混入可能であり、沈殿に対して高い安定性を有する酸化セリウム粉末を提供する。【解決手段】一次粒子の凝集物の形の多結晶酸化セリウム粉末は、70〜150m2/gの比表面積、5〜20nmの平均一次粒子直径および20〜100nmの投影された、平均凝集物直径を有する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

一次粒子の凝集物の形の多結晶酸化セリウム粉末において、該粉末が - 70〜150m2/gの比表面積、 - 5〜20nmの平均一次粒子直径および - 20〜100nmの投影された、平均凝集物直径を有することを特徴とする、多結晶酸化セリウム粉末。

IPC (5)：

C01F17/00 , B01J23/10 , B01J35/10 , B01J37/00 , C09K3/14

FI (5)：

C01F17/00 A , B01J23/10 M , B01J35/10 301J , B01J37/00 B , C09K3/14 550D

F-Term (35)：

4G069AA08 , 4G069AA12 , 4G069BB04A , 4G069BC43A , 4G069DA05 , 4G069EA01X , 4G069EB18X , 4G069EB19 , 4G069EC02X , 4G069EC03X , 4G069EC06X , 4G069EC07X , 4G069EC09X , 4G069EC18X , 4G069FA01 , 4G069FB34 , 4G069FB40 , 4G069FB63 , 4G069FC06 , 4G069FC07 , 4G076AA02 , 4G076AB11 , 4G076AB13 , 4G076BA01 , 4G076BD02 , 4G076BD06 , 4G076BE20 , 4G076CA02 , 4G076CA05 , 4G076CA26 , 4G076CA28 , 4G076CA36 , 4G076DA01 , 4G076DA02 , 4G076DA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

米国特許第5772780号明細書
米国特許第6420269号明細書
米国特許第6221118号明細書

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Cited by examiner (11)

セリア組成物およびその製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-538290 Applicant：キャボットコーポレイション
新規な形態学的特徴を有する酸化第二セリウムの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-139224 Applicant：ローヌ-プーラン・シミ
酸化セリウム研磨剤、半導体チップ、それらの製造法及び基板の研磨法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-327883 Applicant：日立化成工業株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Cerium(IV)oxide synthesis and sinterable powders prepared by the polymeric organic complex solution

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