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J-GLOBAL ID：200903033980864287

パターンドメディア、その製造方法及びその評価方法

Inventor：
北出 康博

About 北出 康博

, 
小森谷 均

About 小森谷 均


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 竹内 進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003433707
Publication number (International publication number)：2005190624
Application date： Dec. 26, 2003
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：
【課題】磁性ドットを形成する磁性金属膜について、材料的な密度の揺らぎを最小限に抑えて記録再生に最適なドットアレイを得る。 【解決手段】 記録層として磁性金属薄膜を成膜した後に微細加工してアレイ状に配列された磁性ドットを形成したパターンドメディアは、固体状磁性金属薄膜の微細加工により形成された磁性ドットを備える。パターンドメディアの製造プロセスは、初期条件により成膜された磁性金属膜をもつサンプル媒体を対象に、磁性金属薄膜から理論的に決まる単軸粒子サイズ等の所定のサイズをもつサンプル磁性ドットのドットアレイを形成するドット形成過程と、ドットアレイを交流消磁する消磁過程と、交流消磁した後の各サンプル磁性ドットの磁区パターンを観察してシングルドメイン42,44となる割合を測定する割合測定過程と、単一磁区となる割合が所定値以上となるように成膜条件を調整して固体状磁性金属薄膜を成膜するスパッタ装置の成膜条件を決定する調整過程とを備える。 【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
記録層として磁性金属薄膜を成膜した後に微細加工してアレイ状に配列された磁性ドットを形成したパターンドメディアに於いて、 固体状磁性金属薄膜の微細加工により形成された磁性ドットを備えたことを特徴とするパターンドメディア。
IPC (3)：
G11B5/65 ,  G11B5/84 ,  G11B5/851
FI (3)：
G11B5/65 ,  G11B5/84 C ,  G11B5/851
F-Term (11)：
5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006EA03 ,  5D006FA00 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112FA04 ,  5D112FB08 ,  5D112FB30 ,  5D112GA20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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