医薬組成物 | Patent Information

【要約】 (修正有)【課題】本発明は、バソプレシン拮抗剤、オキシトシン拮抗剤、バソプレシン作動剤等として有用な医薬組成物を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の医薬組成物中に含有されるベンゾヘテロ環誘導体は、一般式(1)で代表される化合物である。〔式中、Xは-CH2-,=CH-,-NR14(R14:水素原子、低級アルキル基等)または単結合を示し、R1は水素原子、ハロゲン原子等を示し、R2は水素原子等を示し、R3は水素原子、-CH2COOR15(R15:水素、低級アルキル基等)等を示し、Rは式(2)、式(3)等の基を示す〕

一般式【化1】〔式中Gは【化2】を示す。R1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、低級アルカノイルオキシ基、置換基として低級アルキル基及び低級アルカノイル基なる群より選ばれた基を有することのあるアミノ低級アルコキシ基、置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ基、カルボキシ置換低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルコキシ基又は置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノカルボニル低級アルコキシ基を示す。R2は、基-NR4R5(R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、置換基として水酸基を有することのある低級アルキル基又はフェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるベンゾイル基を示す。);水素原子;水酸基;低級アルコキシ基;カルボキシ置換低級アルキル基;シアノ置換低級アルキル基;テトラゾリル基置換低級アルキル基;低級アルカノイルオキシ基置換低級アルキル基;低級アルコキシカルボニル置換低級アルキル基;置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルカノイルオキシ基;低級アルコキシカルボニル基置換低級アルコキシ基;カルボキシ基置換低級アルコキシ基;低級アルカノイル基;又は基-(O)m-A-(CO)uNR6R7(m及びuはそれぞれ0又は1を示す。但しm及びuは同時に0であってはならない。Aは低級アルキレン基を示す。R6及びR7は同一又は異なって、水素原子、低級アルコキシ基、低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルキル基、カルバモイル基置換低級アルキル基、アダマンチル基置換低級アルキル基、低級アルキルスルホニル基又はフェニル環上にハロゲン原子を有することのあるフェニル基を示す。R6及びR7は、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく5〜7員環の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基が置換していてもよい。)を示す。R3は、水素原子又は水酸基置換低級アルキル基を示す。またR2とR3とは、これらが一緒になってオキソ基、低級アルキリデン基、低級アルコキシ置換低級アルキリデン基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルキリデン基、又はフェニル置換低級アルキリデン基を形成してもよい。Rは、ピリジン環上に置換基としてフェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェニル基及びピリジル基なる群より選ばれた基を有することのあるピリジルカルボニル基;9-オキソフルオレニル基;キノリン環上に置換基としてフェニル基を有することのあるキノリルカルボニル基;アダマンチルカルボニル基;チオフェン環上に置換基としてフェニル基を有することのあるチエニルカルボニル基;チアゾール環上に置換基としてフェニル基を有することのあるチアゾリルカルボニル基;シクロアルキルカルボニル基又は基【化3】(pは1又は2を示す。R8は、水素原子、低級アルキル基、水酸基、置換基として低級アルカノイル基を有することのあるアミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基を示す。R9は、基-NR10R11(R10は水素原子、低級アルキル基又は置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基を示す。R11は低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子及び水酸基なる群より選ばれた基を有することのある低級アルカノイル基、シクロアルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を有することがあり且つ低級アルキル基部分に水酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基、フェニル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子置換低級アルキル基、置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ基、ニトロ基、低級アルカノイル基置換アミノ基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を有することがあり且つ低級アルカノイル基部分に置換基としてハロゲン原子を有することのあるフェノキシ低級アルカノイル基、置換基として低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群より選ばれた基を有することのあるアミノカルボニル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ置換低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ置換低級アルカノイル基、フェノキシ低級アルコキシカルボニル基、ベンゾフリルカルボニル基、ベンゾイミダゾリルカルボニル基;キノリルカルボニル基、キノリルオキシ置換低級アルカノイル基、フェニル低級アルコキシカルボニル基、基【化4】、テトラヒドロイソキノリルカルボニル基、ベンゾイル低級アルキル基、キノリン環上に置換基として低級アルキル基及びオキソ基なる群より選ばれた基を有することのあるテトラヒドロキノリルオキシ置換低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、ピリジル低級アルコキシカルボニル基、フルオレニル低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、テトラヒドロナフチルオキシ置換低級アルカノイル基、フェニル低級アルケニルカルボニル基、ピペリジン環上に置換基として低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキル基なる群より選ばれた基を有することのあるピペリジニル低級アルコキシカルボニル基を示す。またR10及びR11は、これらが結合する窒素原子と共にイソインドリン環を形成してもよい。);水素原子;低級アルカノイルオキシ基;低級アルカノイル基;低級アルコキシ基;フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるベンゾイル基;シクロアルキル基;低級アルキル基;低級アルキルチオ基;フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェニル低級アルカノイル基;フェニル環上に置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、水酸基、低級アルカノイルオキシ基、ハロゲン原子置換低級アルコキシ基、ニトロ基、置換基として低級アルカノイル基を有することのあるアミノ基、フェニル基及び置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルコキシ基なる群より選ばれた基を有することのあるフェニル基;フェノキシ基;フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級アルキル基;フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェニル低級アルキル基;フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるアニリノ低級アルキル基;フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級アルコキシカルボニル基並びに置換基として低級アルキル基及び置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルキル基なる群より選ばれた基を有することのあるアミノカルボニル基なる群より選ばれた基を有することのあるフェニル低級アルコキシ基;フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるベンゾイル低級アルコキシ基;フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるフェニル低級アルケニル基;フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるベンゾイル低級アルキル基;ピロリジニル置換低級アルコキシ基;窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を1〜4個有する飽和もしくは不飽和の5〜11員環の単環又は二項環の複素環基(該複素環基には置換基として低級アルキル基、フェニル基、低級アルカノイル基、ハロゲン原子、フェニル低級アルキル基及びオキソ基なる群より選ばれた基を1〜3個有していてもよい);シクロアルケニル基;フェニル低級アルキルアミノカルボニル基;置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノスルホニルオキシ基;シアノ基;又は基-(A)m-CHR12R13(Aは前記に同じ。R12は水素原子、水酸基又は低級アルカノイルオキシ基を示す。R13はフェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェニル基又はフェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェニル低級アルキル基を示す。mは0又は1を示す。)を示す。)。Xはメチレン基、単結合、基=CH-又は基-NR14-(R14は水素原子、低級アルキル基又は低級アルカノイル基を示す。)を示す。Yは-NRA-を示す(RAは水素原子、低級アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、カルボキシ置換低級アルキル基又は基-ACONRBRCを示す。ここでRB及びRCは、同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。またこのRB及びRCは、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結合して5〜7員環の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上に低級アルキル基が置換していてもよい。)を示す。但し、R2が基-NR4R5(R4及びR5が同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基又はベンゾイル基を示す。)、水素原子、水酸基、低級アルコキシカルボニル基置換低級アルコキシ基、カルボキシ基置換低級アルコキシ基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルオキシ基置換低級アルキル基、基-(O)m-A-(CO)uNR6R7(mは1、uは0又は1を示す。R6及びR7が同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示すか、R6及びR7がこれらが結合する窒素原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく5〜6員環の飽和複素環を形成する(該複素環上に低級アルキル基が置換していてもよい))、又は置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルカノイルオキシ基;又はR2とR3が一緒になってオキソ基又は低級アルキリデン基を形成する;Rが基【化5】であって、R8が水素原子、低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はアミノ基をそれぞれ示すとき、R9は水素原子であってはならないし、またR9が基-NR10R11であって且つR11が低級アルカノイル基、フェニル低級アルコキシカルボニル基又はフェニル環上に置換基として低級アルキル基、アミノ基、低級アルカノイル基置換アミノ基及び低級アルコキシ基なる群より選ばれた基を1〜3個有することのあるフェノキシ低級アルカノイル基であってはならない。またR1が水素原子で、R2が水素原子、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基又はジ低級アルキルアミノ基であるか、或いはR2とR3とが一緒になってオキソ基を形成するとき、R9はフェニル環上に置換基として水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルカノイルオキシ基を有することのあるフェニル基であってはならない。またR9が基【化6】(nは1又は2を示す)、Gが基【化7】(R2及びR3は前記に同じ)を示すとき、Xはメチレン基又は基=CH-であってはならない。またR10及びR11は、一方が水素原子である場合、他方は低級アルキル基であってはならない。またR1及びR2が同時に水素原子を示すとき、Rは無置換のピリジルカルボニル基、無置換のチエニルカルボニル基、無置換のチアゾリルカルボニル基又はシクロアルキルカルボニル基であってはならない。更にR3が水素原子、R2が水素原子、置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニル基置換低級アルコキシ基、水酸基、低級アルコキシ基、基-(O)m-A-(CO)uNR6R7(mが1、uが0又は1を示す。R6及びR7は同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。)又は基-NR4R5(R4及びR5は同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。)を示すか、又はR2とR3が一緒になってオキソ基又は低級アルキリデン基を示すとき、R9は基-NR10R11(R10は低級アルキル基、R11は低級アルキル基を示す。)、水素原子、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ基又は低級アルキル基であってはならない。〕で表わされるベンゾヘテロ環誘導体及びその塩から選ばれた少なくとも1種を含有する医薬組成物。

C07D223/16 , A61K 31/55 ABU , A61K 31/55 AED , C07D243/12 , C07D243/14 , C07D401/06 223 , C07D401/10 243 , C07D401/12 223 , C07D401/14 223 , C07D403/10 209 , C07D403/10 223 , C07D403/12 223 , C07D405/12 223 , C07D409/06 223 , C07D413/10 223 , C07D413/10 243 , C07D417/06 223 , C07D417/10 223 , C07D471/04 108

C07D223/16 A , A61K 31/55 ABU , A61K 31/55 AED , C07D243/12 , C07D243/14 , C07D401/06 223 , C07D401/10 243 , C07D401/12 223 , C07D401/14 223 , C07D403/10 209 , C07D403/10 223 , C07D403/12 223 , C07D405/12 223 , C07D409/06 223 , C07D413/10 223 , C07D413/10 243 , C07D417/06 223 , C07D417/10 223 , C07D471/04 108 A

Cited by examiner (10)

特開昭63-091372
特開昭63-239270
1-アシル-2,3-ジヒドロ-4(1H)-キノリノン誘導体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-027135 Applicant：持田製薬株式会社, 保土谷化学工業株式会社

Show all