Pat
J-GLOBAL ID:200903034618732140
画像形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002162384
Publication number (International publication number):2004012564
Application date: Jun. 04, 2002
Publication date: Jan. 15, 2004
Summary:
【課題】一画素中において、部分的に着色層の膜厚を変化させた、反射・透過両用LCDに好適に用いられる画像の簡便な形成方法を提供すること、およびスペーサと配向制御用突起の簡便な形成方法を提供する。【解決手段】第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、フォトマスクを介して露光、現像する工程において、前記フォトマスクが少なくとも2種類の光透過性パターンを有するものであり、且つ前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1より大きい画像の形成方法であって、第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との間に、バリヤ層を設けることを特徴とする画像形成方法である。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
基体上に、第1のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Aと、
前記第1のネガ型感光性樹脂層の層上に、さらに第2のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Bと、
前記第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、フォトマスクを介して露光する工程Cと、
前記露光後の第1及び第2のネガ型感光性樹脂層を現像する工程Dを有し、
前記フォトマスクを介して露光する工程Cが、少なくとも2種類の光透過性パターンを有するフォトマスクを介して露光するものであり、
且つ、前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1より大きい画像形成方法であって、
前記工程Aと、前記工程Bとの間に、バリヤ層を設ける工程Eを有することを特徴とする画像形成方法。
IPC (4):
G03F7/11
, G02B5/20
, G03F7/095
, G03F7/26
FI (4):
G03F7/11
, G02B5/20 101
, G03F7/095
, G03F7/26 501
F-Term (31):
2H025AB11
, 2H025AB13
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025CA01
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB43
, 2H025DA13
, 2H025DA14
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H048BA02
, 2H048BA45
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB06
, 2H048BB08
, 2H048BB42
, 2H096AA28
, 2H096BA05
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096GA08
, 2H096KA04
, 2H096KA05
, 2H096KA08
, 2H096LA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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特開平4-301846
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半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-080817
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-010668
Applicant:株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
-
パターン形式用レジスト構造とパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-110828
Applicant:日本電気株式会社
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感光性転写材料および画像形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-272305
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
多重コントラストレジストパターンの製造方法、及び多層レジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-227264
Applicant:川崎製鉄株式会社
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特開昭61-292637
-
特開昭58-135640
-
特開昭49-067702
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多層レジストパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-232609
Applicant:株式会社リコー
-
パターン形成用3層積層被膜及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-126367
Applicant:関西ペイント株式会社
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