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J-GLOBAL ID:200903034776538199

銅箔基材上のメッキ皮膜における異常結晶析出防止剤並びに当該防止方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 豊永 博隆
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998299158
Publication number (International publication number):2000109981
Application date: Oct. 05, 1998
Publication date: Apr. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 スズ又はスズ合金メッキを施すに際して、銅箔基材をメッキした直後のスズの異常結晶析出を有効に防止する。【解決手段】 (A)塩酸、硫酸などの無機酸、及び有機スルホン酸、有機カルボン酸などの有機酸よりなる酸の少なくとも一種と、(B)アンモニウム化合物(ペルオキソ系アンモニウム化合物を除く)、アンモニア及びアミン系化合物の少なくとも一種を含有する銅箔基材上のメッキ皮膜における異常結晶析出防止剤である。上記アンモニウム化合物などが銅箔に作用したうえで酸が働くため、銅箔基材を当該異常結晶析出防止剤に接触処理した後に、スズ又はスズ合金メッキを施すと、メッキ直後のスズの異常結晶析出を有効に防止できる。
Claim (excerpt):
(A)塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸、及び有機スルホン酸、有機カルボン酸などの有機酸よりなる酸の少なくとも一種、(B)アンモニウム化合物(ペルオキソ系アンモニウム化合物を除く)、アンモニア及びアミン系化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする銅箔基材上のメッキ皮膜における異常結晶析出防止剤。
IPC (7):
C23C 18/18 ,  C23C 18/31 ,  C23G 1/02 ,  C25D 3/30 ,  C25D 5/34 ,  H01L 21/60 311 ,  H05K 3/18
FI (7):
C23C 18/18 ,  C23C 18/31 Z ,  C23G 1/02 ,  C25D 3/30 ,  C25D 5/34 ,  H01L 21/60 311 W ,  H05K 3/18 J
F-Term (50):
4K022AA02 ,  4K022AA42 ,  4K022BA21 ,  4K022CA07 ,  4K022CA15 ,  4K022CA16 ,  4K022CA23 ,  4K022DB02 ,  4K022DB04 ,  4K022DB08 ,  4K023AA17 ,  4K023AB33 ,  4K023BA15 ,  4K023CA04 ,  4K023CB17 ,  4K024AA07 ,  4K024AB01 ,  4K024BA09 ,  4K024BB11 ,  4K024DA03 ,  4K024DA06 ,  4K024DA07 ,  4K024GA16 ,  4K053PA06 ,  4K053PA11 ,  4K053RA15 ,  4K053RA16 ,  4K053RA19 ,  4K053RA25 ,  4K053RA45 ,  4K053RA52 ,  4K053RA55 ,  4K053RA64 ,  4K053RA67 ,  4K053SA06 ,  4K053TA09 ,  4K053TA16 ,  4K053ZA10 ,  5E343BB24 ,  5E343BB34 ,  5E343BB55 ,  5E343BB67 ,  5E343CC78 ,  5E343DD33 ,  5E343GG20 ,  5F044MM02 ,  5F044MM07 ,  5F044MM22 ,  5F044MM35 ,  5F044MM44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 無電解めっきの前処理方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-219693   Applicant:株式会社日鉱共石
  • メッキ前処理用組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-070686   Applicant:大塚化学株式会社
  • 特開昭63-297573
Cited by examiner (6)
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