露光装置及び露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：立石篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997160621
Publication number (International publication number)：1998335242
Application date： Jun. 03, 1997
Publication date： Dec. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】マスクのパターンの描画誤差を補正してマスクパターンを被露光基板上に投影露光する。【解決手段】複数のセンサ(321 〜328 )により、マスク13上のパターンDPの近傍にパターンと同時に形成された第2マークの投影光学系(251 〜257 )によるマーク板28上への投影像と、該投影像に対応するマーク板28上の第1マークとの相対位置関係が検出される。制御系では、各センサ(321〜328 )により検出された各相対位置関係に基づいて、各第2マークの投影像が、対応する第1マークに対して所定の位置関係になるように調整機構26を制御する。この場合、第2マークがパターンと同時にマスク13に形成されているので、調整機構26が制御された状態でマスク上のパターンが基板14上に投影露光されると、結果的にパターンの描画誤差を補正した状態で投影露光が行われる。

Claim (excerpt)：

マスク上のパターンを少なくとも1つの投影光学系を介して被露光基板上に投影露光する露光装置であって、前記被露光基板を保持するとともに、所定方向に沿って配置された複数の第1基準マークを備えた基板ステージと;前記パターンと同時に前記マスクに形成された第2基準マークが前記第1基準マークに対応するように、前記マスクを保持するマスクステージと;前記投影光学系に設けられ、前記第2基準マーク及び前記パターンの前記投影光学系による投影像の位置を調整する調整機構と;前記各第2基準マークの前記投影光学系による前記基板ステージ上への投影像と、該投影像に対応する前記第1基準マークとの相対位置関係を検出する複数のセンサと;前記各センサにより検出された前記各相対位置関係に基づいて、前記各第2基準マークの投影像が、前記各第2基準マークの投影像に対応する前記第1基準マークに対して所定の位置関係になるように前記調整機構を制御する制御装置とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (3)：

H01L 21/30 525 Z , G03F 9/00 H , H01L 21/30 516 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

走査型露光装置及び露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-158126 Applicant：株式会社ニコン
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-215310 Applicant：株式会社ニコン
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-215311 Applicant：株式会社ニコン

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