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J-GLOBAL ID:200903035436972419
蛍光X線三次元分析装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005216204
Publication number (International publication number):2007033207
Application date: Jul. 26, 2005
Publication date: Feb. 08, 2007
Summary:
【課題】 高い三次元位置分解能で高精度の蛍光X線三次元分析を可能とする蛍光X線三次元分析装置を提供する。【解決手段】 試料を載置するための移動ステージと、X線源及び前記X線源から照射されるX線を試料内部において集光点に集光する照射側集光光学部とを有するX線照射集光手段と、移動ステージに載置される試料から発生する蛍光X線を集光する検出側集光光学部及び検出側集光光学部により集光される蛍光X線を受けてその検出を行う検出器とを有する蛍光X線検出手段と、移動ステージを三次元に移動させる駆動手段と、検出側集光光学部の焦点と、照射側集光光学部の集光点とを試料内部において一致させる調整手段とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
試料を載置するための移動ステージと、
X線源及び前記X線源から照射されるX線を前記試料内部において集光点に集光する照射側集光光学部とを有するX線照射集光手段と、
前記移動ステージに載置される前記試料から発生する蛍光X線を集光する検出側集光光学部及び前記検出側集光光学部により集光される蛍光X線を受けてその検出を行う検出器とを有する蛍光X線検出手段と、
前記移動ステージを三次元に移動させる駆動手段と、
前記検出側集光光学部の焦点と、前記照射側集光光学部の前記集光点とを前記試料内部において一致させる調整手段とを備える蛍光X線三次元分析装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (12):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001EA01
, 2G001GA01
, 2G001GA08
, 2G001KA01
, 2G001KA12
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001PA11
, 2G001PA14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
全反射蛍光X線分析法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-215631
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
Cited by examiner (3)
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蛍光X線分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-155674
Applicant:株式会社島津製作所
-
X線を用いた断層像撮像方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-223958
Applicant:株式会社日立製作所
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特許第3537652号
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