感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998262197
Publication number (International publication number)：2000089457
Application date： Sep. 17, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】優れた感光特性を有し、低露光量でも形状に優れる良好なパターンが得られる感光性ポリイミド前駆体組成物及びパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (A)光重合可能な炭素-炭素二重結合を有するポリイミド前駆体並びに(B)光開始剤系として(b1)4,4′-ビス(N-エチル、N-メチル)アミノベンゾフェノン及び(b2)下記一般式(I)で表わされるヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物およびこの組成物を用いて被膜を形成する工程、被膜にマスクを介して光を照射する工程、及び、光照射後の被膜を有機溶媒または塩基性水溶液を用いて現像する工程を含むパターンの製造法。(式中、X、Y及びZは、アルキル基、ハロゲン原子、トリハロメチル基などであり、p、q及びrは、0〜5の整数である)

Claim (excerpt)：

(A)光重合可能な炭素-炭素二重結合を有するポリイミド前駆体並びに(B)光開始剤系として(b1)4,4′-ビス(N-エチル、N-メチル)アミノベンゾフェノン及び(b2)一般式(I)【化1】(式中、X、Y及びZは、各々独立に、アルキル基、ハロゲン原子、トリハロメチル基、ニトロ基、アルコキシ基又は-COR1若しくは-COOR2(R1及びR2は各々独立にアルキル基である)で示される基であり、p、q及びrは、各々独立に、0〜5の整数である)で表わされるヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物。

IPC (7)：

G03F 7/027 514 , C08G 73/10 , C08K 5/3465 , C08L 79/08 , G03F 7/028 , H01L 21/027 , H01L 21/312

FI (8)：

G03F 7/027 514 , C08G 73/10 , C08K 5/3465 , C08L 79/08 A , G03F 7/028 , H01L 21/312 B , H01L 21/312 D , H01L 21/30 502 R

F-Term (96)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA10 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC31 , 2H025BC34 , 2H025BC51 , 2H025BC53 , 2H025BC69 , 2H025CA00 , 2H025CA03 , 2H025CA27 , 2H025CA28 , 2H025FA16 , 2H025FA17 , 4J002CM041 , 4J002EN096 , 4J002EU117 , 4J002FD156 , 4J002FD157 , 4J002GP03 , 4J043PA19 , 4J043PC085 , 4J043QB15 , 4J043QB23 , 4J043QB25 , 4J043QB31 , 4J043QB34 , 4J043RA35 , 4J043RA39 , 4J043SA06 , 4J043SA15 , 4J043SA17 , 4J043SA42 , 4J043SA43 , 4J043SA44 , 4J043SA62 , 4J043SA71 , 4J043SB01 , 4J043TA26 , 4J043TA32 , 4J043TA35 , 4J043TB01 , 4J043UA121 , 4J043UA122 , 4J043UA131 , 4J043UA132 , 4J043UA142 , 4J043UA151 , 4J043UA152 , 4J043UA222 , 4J043UA252 , 4J043UA261 , 4J043UA262 , 4J043UA361 , 4J043UA362 , 4J043UB011 , 4J043UB021 , 4J043UB061 , 4J043UB062 , 4J043UB121 , 4J043UB122 , 4J043UB131 , 4J043UB132 , 4J043UB151 , 4J043UB152 , 4J043UB281 , 4J043UB301 , 4J043UB302 , 4J043UB351 , 4J043UB352 , 4J043UB401 , 4J043UB402 , 4J043VA011 , 4J043VA021 , 4J043VA022 , 4J043VA031 , 4J043VA032 , 4J043VA041 , 4J043VA051 , 4J043VA061 , 4J043VA062 , 4J043VA081 , 4J043VA091 , 4J043VA101 , 4J043VA102 , 4J043ZB22 , 5F058AA05 , 5F058AC02 , 5F058AC07 , 5F058AF04 , 5F058AG01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

基板上にパターン化されたポリイミド被膜を形成させる方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-345600 Applicant：デュポン株式会社
感光性ポリイミド前駆体組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-132353 Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
感光性樹脂組成物及びこれを用いたドライフィルムレジスト
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-287457 Applicant：日本合成化学工業株式会社

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