液晶マスク式露光マーキング装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997284854
Publication number (International publication number)：1999119439
Application date： Oct. 17, 1997
Publication date： Apr. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、露光マーキングの処理時間の短縮化および高効率で鮮明な露光マーキング技術を確立することを課題とする。【解決手段】YAGレーザの第3高調波である波長355nmのレーザ光を発振するレーザ発振器1からの紫外線レーザ光2を加工室13内の被露光部材である液晶ディスプレイ用ガラス基板12上の所望の位置に一括的に効率よく露光マーキングするようにしており、そのために1/2波長板4,レーザビーム拡大レンズ系5,偏光ビームスプリッタ9,反射鏡10,加工室13、及び縮小結像レンズ11とを備えるとともに、紫外線レーザ光透過型の露光パターン作成用の液晶パネル式マスク6を用いることにより上記課題を解決している。

Claim (excerpt)：

露光用の光源と、該光源からの光を所定の露光パターンに形成する液晶パネル型マスクと、該液晶パネル型マスクを通過し、所定の露光パターンに形成された光を被露光物に結像することで露光マーキングする縮小結像光学系とを備えた液晶マスク式露光マーキング装置において、前記露光用の光源を紫外線レーザ発振器とすると共に、前記液晶パネル型マスクの後段に偏光ビームスプリッタを配置し、前記液晶パネル型マスクのマスクパターンを通過した紫外線レーザ光とそれ以外の紫外線レーザ光とを、この偏光ビームスプリッタで分離し、該偏光ビームスプリッタで分離されたマスクパターンを通過した紫外線レーザ光を前記縮小結像光学系を介して前記被露光物に照射してマーキングすることを特徴とする液晶マスク式露光マーキング装置。

IPC (2)：

G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/20 505 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

パターン転写装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-058500 Applicant：株式会社日立製作所
レーザマーカ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-192861 Applicant：株式会社日立製作所
レーザ光によるパターン刻印方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-061587 Applicant：株式会社日立製作所

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