パターン形成材料及びパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：前田弘 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996273288
Publication number (International publication number)：1997189998
Application date： Oct. 16, 1996
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】レジスト膜における露光部の表面に形成される酸化膜のエッジラフネスを改善することにより、レジストパターンの寸法精度を向上させる。【解決手段】一般式【化1】により表される重合体を含むレジスト形成材料である。前記一般式においてR<SB>1</SB>は水素原子又はアルキル基を示し、R<SB>2</SB> は酸の作用により脱離しやすい疎水性の保護基を示し、R<SB>3</SB> は水素原子又はアルキル基を示し、R<SB>4</SB> 及びR<SB>5</SB> はそれぞれが互いに独立している水素原子、アルキル基、フェニル基若しくはアルケニル基、又は両者で環状となっている環状アルキル基、環状アルケニル基、フェニル基を持つ環状アルキル基若しくは環状アルケニル基を示し、xは0<x<1を満たし、yは0<y<1を満たす。

Claim (excerpt)：

露光により酸を発生させる第1の基と、酸雰囲気下で分解して親水基となる第2の基とを含む重合体から成ることを特徴とするパターン形成材料。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/38 512 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/38 512 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

特開平4-025847
新規レジストおよび新規レジストを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-040846 Applicant：松下電器産業株式会社
特開平1-163736

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