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J-GLOBAL ID：200903036671521374

ビスフェノール類の製造方法

Inventor： 大東 昇 ,  吉田 潤一
Applicant, Patent owner： 新日鐵化学株式会社
Agent (3)： 成瀬 勝夫 ,  中村 智廣 ,  佐野 英一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004188386
Publication number (International publication number)：2005187450
Application date： Jun. 25, 2004
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：

【課題】 フェノールとホルムアルデヒドのモル比を高めることなく、生成するビスフェノールFの純度を向上させると共に、生産性を向上させる。【解決手段】 フェノール類とホルムアルデヒド類を、酸触媒の存在下に縮合反応させてビス(ヒドロキシフェニル)メタン類を製造するに当り、フェノール類とホルムアルデヒド類及び酸触媒の3種を同時に含まない2つの反応原料液又は触媒液を、別個に幅1〜300μmの複数の微小流路から、混合空間に供給して、フェノール類/ホルムアルデヒド類のモル比が2〜30で、50〜170°Cで反応することからなるビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法。この微小流路及び混合空間を有する装置としては、マイクロミキサがある。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

フェノール類とホルムアルデヒド類を、酸触媒の存在下に縮合反応させてビス(ヒドロキシフェニル)メタン類を製造するに当り、フェノール類とホルムアルデヒド類及び酸触媒の3種を同時に含まない2つの反応原料液又は触媒液を、別個に幅1〜300μmの複数の微小流路から、混合空間に供給して反応することを特徴とするビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法。

IPC (2)：

C07C37/20 ,  C07C39/16

FI (2)：

C07C37/20 ,  C07C39/16

F-Term (11)：

4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006BA52 ,  4H006BC31 ,  4H006BD21 ,  4H006BD81 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H039CA11 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 特公平3-72049号公報
  
• ビスフェノールの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-288824   Applicant：旭有機材工業株式会社
• ビスフェノールFの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-221679   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
• マイクロミキサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-158051   Applicant：富士電機株式会社
• ポリマーの連続製造方法および同装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-544700   Applicant：シーメンス・アクシヴァ・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニー・カーゲー

Cited by examiner (4)

• 特開昭58-177928
  
• ビスフェノールの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-288824   Applicant：旭有機材工業株式会社
• ビスフェノールFの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-221679   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
• マイクロミキサー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-010559   Applicant：富士写真フイルム株式会社