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J-GLOBAL ID:200903037447346008

微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 小野 信夫 ,  高橋 徳明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004076820
Publication number (International publication number):2004197228
Application date: Mar. 17, 2004
Publication date: Jul. 15, 2004
Summary:
【課題】 特別の電気的設備を必要とせず、簡単に、微細な溝あるいは孔に対し、ボイドの発生を防ぎながら効率よく銅めっきを行ない、基材上の配線溝を孔埋めする方法を開発すること。【解決手段】 微細孔および/または微細溝を有する基材上に、最初に低電流で短時間、例えば平均陰極電流密度0.03〜0.5A/dm2で10秒〜10分間めっきを行い、次いで電流を上げ、所定の膜厚までめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
微細孔および/または微細溝を有する基材上に、径の小さい孔や溝の中まで金属が析出するようめっきを行い、次いで相対的に高い電流密度で径の大きい孔や溝を埋めるようめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。
IPC (6):
C25D5/18 ,  C25D3/38 ,  C25D3/46 ,  C25D7/12 ,  H01L21/288 ,  H01L21/3205
FI (6):
C25D5/18 ,  C25D3/38 102 ,  C25D3/46 ,  C25D7/12 ,  H01L21/288 E ,  H01L21/88 M
F-Term (31):
4K023AA19 ,  4K023AA24 ,  4K023AB38 ,  4K023AB40 ,  4K023BA12 ,  4K023CA09 ,  4K023DA07 ,  4K023DA08 ,  4K024AA09 ,  4K024AA10 ,  4K024AA14 ,  4K024AB01 ,  4K024AB19 ,  4K024BB12 ,  4K024CA02 ,  4K024CA04 ,  4K024CA06 ,  4K024CA07 ,  4K024GA16 ,  4M104BB04 ,  4M104BB08 ,  4M104DD05 ,  4M104DD52 ,  5F033HH11 ,  5F033HH14 ,  5F033JJ11 ,  5F033JJ14 ,  5F033MM01 ,  5F033PP26 ,  5F033WW00 ,  5F033WW10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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