走査露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：川北喜十郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995160064
Publication number (International publication number)：1996330220
Application date： Jun. 02, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】走査方向と直交する方向に複数のパターン像を部分的に接続させることによって感光基板上に所定のパターンをつなぎ合わせて形成する際に、パターン像の接続部と他の露光領域における露光量をほぼ同一にする。【構成】レチクル5上の照明領域21を光ビームで照射する照明光学系を有し、前記照明領域に対して前記マスクと感光基板とを同期して走査することにより、マスク上のパターン像で感光基板を露光する装置である。マスク上での照明領域の走査方向の幅を設定するための固定視野絞り5と、照明領域の走査方向の幅を制限する第1及び第2の遮光板7C、7Dと、前記照明領域の前記走査方向と直交する方向の幅を設定するとともに少なくとも一方が前記照明光学系の光軸とほぼ垂直な面内で回転移動する第3及び第4の遮光板7A,7Bとからなる可変視野絞りとを備える。遮光板7A,7Bはそれぞれ画面継ぎ部200の接続領域Δ上で同じ回転角を維持して走査露光されることで、接続部Δと他の領域では同一の露光量が得られる。

Claim (excerpt)：

マスク上の照明領域を光ビームで照射する照明光学系を有し、前記照明領域に対して前記マスクと感光基板とを同期して走査することにより、前記マスク上のパターン像で前記感光基板を露光する装置において、前記マスク上での前記照明領域の走査方向の幅を設定するための固定視野絞りと、前記照明領域の走査方向の幅を制限する第1及び第2の遮光板と、前記照明領域の前記走査方向と直交する方向の幅を設定するとともに、少なくとも一方が前記照明光学系の光軸とほぼ垂直な面内で回転移動する第3及び第4の遮光板とからなる可変視野絞りとを備えたことを特徴とする走査露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平4-196513
走査型露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-176781 Applicant：キヤノン株式会社
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-030150 Applicant：株式会社ニコン

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Cited by examiner (5)

特開平4-196513
特開平4-196513
走査型露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-176781 Applicant：キヤノン株式会社

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