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J-GLOBAL ID:200903037810389695

異物組成自動分析装置及び異物組成自動分析方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柏谷 昭司 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996095071
Publication number (International publication number):1997283582
Application date: Apr. 17, 1996
Publication date: Oct. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 異物組成自動分析装置及び異物組成自動分析方法に関し、被分析試料上の異物の組成分析を自動的に、且つ、高速度で行う。【解決手段】 欠陥検査装置によって予め測定した被分析試料表面に存在する異物の位置、及び、予め設定した各サイズに関するデータを少なくとも含む欠陥検査データを基にして、異物組成分析装置の観測中心位置に異物の位置を自動的に合わせる手段、観測中心位置の所定の領域に所定のエネルギーに加速した電子ビームを照射する手段、その領域から発生した蛍光X線及びオージェ電子の少なくとも一方を検出する手段、及び、検出結果を解析する手段を異物組成自動分析装置に設ける。
Claim (excerpt):
欠陥検査装置によって予め測定した被分析試料表面に存在する異物の位置、及び、予め設定した各サイズに関するデータを少なくとも含む欠陥検査データを基にして、異物組成分析装置の観測中心位置に前記異物の位置を自動的に合わせる手段、前記観測中心位置の所定の領域に所定のエネルギーに加速した電子ビームを照射する手段、前記領域から発生した蛍光X線及びオージェ電子の少なくとも一方を検出する手段、及び、前記検出手段による検出結果を解析する手段を備えることを特徴とする異物組成自動分析装置。
IPC (4):
H01L 21/66 ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227 ,  H01J 37/28
FI (5):
H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 A ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227 ,  H01J 37/28 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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