レジスト用剥離液およびこれを用いたレジスト剥離方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001098842
Publication number (International publication number)：2002296804
Application date： Mar. 30, 2001
Publication date： Oct. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】安全性に優れたレジスト用剥離液を得る。【解決手段】 t-ブチルヒドラジン、またはその塩を含有してレジスト用剥離液を調製し、これをレジストの剥離に用いる。

Claim (excerpt)：

t-ブチルヒドラジンまたはその塩を含有してなるレジスト用剥離液。

IPC (3)：

G03F 7/42 , H01L 21/027 , H01L 21/308

FI (3)：

G03F 7/42 , H01L 21/308 E , H01L 21/30 572 B

F-Term (7)：

2H096AA25 , 2H096AA28 , 2H096GA08 , 2H096HA11 , 2H096LA03 , 5F043CC16 , 5F046MA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-393430 Applicant：ナガセ化成工業株式会社
金属腐食を減少させるための還元剤を含有しているフォトレジストストリッパー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-268033 Applicant：ジェイティ-ベ-カ-インコ-ポレイテッド
還元及び酸化電位を有する求核アミン化合物を含む洗浄剤組成物およびこれを使用した基板の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-237904 Applicant：イー.ケー.シー.テクノロジー.インコーポレイテッド

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