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J-GLOBAL ID:200903037910482986

浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西教 圭一郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997358165
Publication number (International publication number):1999128660
Application date: Dec. 25, 1997
Publication date: May. 18, 1999
Summary:
【要約】【課題】 保守管理に手間がかからず、構成の簡略化を図る。【解決手段】 浄化装置1は、集塵手段3と非平衡プラズマを発生させるプラズマ発生手段4とを含む。煤塵などの塵埃を含むガスは、集塵手段3に供給され、集塵手段3で塵埃を捕集して除去し、この塵埃が除去されたガスはプラズマ発生手段4に供給され、プラズマ発生手段4でこのガス中の臭気成分および有害成分を分解除去する。このようにして、プラズマ発生手段4には塵埃が除去されたガスだけが供給されるので、プラズマ発生手段4の清掃などの手間がかからず、浄化装置1の保守管理を容易にすることができる。プラズマ発生手段4は、非平衡プラズマを発生させるので、プラズマ発生手段4に冷却手段などを設ける必要がなく構成の簡略化を図ることができる。
Claim (excerpt):
煤塵などの塵埃を含むガスが供給され、このガスから塵埃を捕集して除去する集塵手段と、塵埃が除去されたガスが供給され、放電電極およびアース電極間の放電によってプラズマを発生するプラズマ発生手段とを含むことを特徴とする浄化装置。
IPC (4):
B01D 53/34 ,  B01D 53/32 ,  F01N 3/08 ,  H05H 1/48
FI (4):
B01D 53/34 Z ,  B01D 53/32 ,  F01N 3/08 C ,  H05H 1/48
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • プラズマ利用の排ガス処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-103407   Applicant:株式会社タクマ
  • 特開平4-363115
  • 特開平2-227117
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