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J-GLOBAL ID：200903037949321041
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
金山 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000127548
Publication number (International publication number)：2001312043
Application date： Apr. 27, 2000
Publication date： Nov. 09, 2001
Summary：
【要約】【課題】 工程を複雑にせず、エッチング装置の構成も複雑にせず、ドライエッチング加工ができる構成のハーフトーン位相シフトフォトマスクを提供しようとするものである。 同時に、そのような加工を可能とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスを提供する。【解決手段】 透明基板上にハーフトーン位相シフト層と実質的な遮光膜とが積層されているハーフトーン位相シフトフォトマスク形成用のブランクスであって、前記実質的な遮光膜が、タンタルを主成分とする1層を含む、単層または多層膜からなる。そして、上記において、ハーフトーン位相シフト層が金属シリサイドを主成分とし、酸素、窒素、フッ素の中から少なくとも一つ以上の元素を含む1層を含む、単層または多層膜からなる。
Claim (excerpt)：
透明基板上にハーフトーン位相シフト層と実質的な遮光膜とが積層されているハーフトーン位相シフトフォトマスク形成用のブランクスであって、前記実質的な遮光膜が、タンタルを主成分とする1層を含む、単層または多層膜からなることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス。
FI (2)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 G
2H095BA01
, 2H095BB03
, 2H095BC05
, 2H095BC11
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
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