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J-GLOBAL ID:200903038173331595

ITO焼結体の製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996341845
Publication number (International publication number):1998182228
Application date: Dec. 20, 1996
Publication date: Jul. 07, 1998
Summary:
【要約】【課題】 スパッタリング中のノジュール発生がなく、異物発生が抑制された、焼結密度が7.08g/cm3の超高密度ITO(酸化インジウム-酸化スズ)焼結体を提供する。【解決手段】 少なくとも酸化スズ粉末を気流中で相互に衝突させるか、または衝突体に衝突させて粉砕した後、酸化スズ粉末と酸化インジウム粉末とを混合、成形、焼結してITO焼結体を製造する。粉砕後の酸化スズ粉末は、その90wt%以上が0.2μm〜10μmの粒径を持つことが好ましく、このような粉砕にはジェットミルを用いることができる。
Claim (excerpt):
実質的に酸化インジウム、酸化スズとからなる粉末を混合、成形、焼結してITO焼結体を製造する方法において、酸化スズ粉末を、気流中で相互に衝突させるか、または衝突体に衝突させて粉砕した後、酸化インジウム粉末と混合することを特徴とするITO焼結体の製造法。
IPC (3):
C04B 35/495 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34
FI (3):
C04B 35/00 J ,  C23C 14/08 D ,  C23C 14/34 A
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (2)

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