非導電性成形体の表面処理装置及び表面処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：森田憲一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999198911
Publication number (International publication number)：2001026660
Application date： Jul. 13, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】電極に印加するパルス電圧の立ち上がりが速く、前記パルス電圧の高周波化が可能で、装置寿命の長い、非導電性成形体の表面処理装置及び表面処理方法を提供する。【解決手段】前記表面処理装置1は、(1)対向して配置した一対の電極3a,3b、(2)半導体スイッチ5、トランス6、磁気スイッチ7、及びコンデンサ8を含み、半導体スイッチのスイッチングにより得られたパルス電圧を、トランスにより昇圧し、更に、磁気スイッチ及びコンデンサを用いて得られる電圧の立ち上がり及び立ち下がりが急峻化されたパルス電圧を、両電極間に印加することのできるパルス電源2、並びに(3)両電極の間に形成され、表面処理を実施すべき非導電性成形体を配置し、非導電性成形体の表面処理を実施する表面処理空間10を含む。

Claim (excerpt)：

(1)対向して配置した一対の電極、(2)半導体スイッチ、トランス、磁気スイッチ、及びコンデンサを含み、前記半導体スイッチのスイッチングにより得られたパルス電圧を、前記トランスにより昇圧し、更に、前記磁気スイッチ及び前記コンデンサを用いて得られる、電圧の立ち上がり及び立ち下がりが急峻化されたパルス電圧を、前記の両電極間に印加することのできるパルス電源、並びに(3)前記両電極の間に形成され、表面処理を実施すべき非導電性成形体を配置し、前記非導電性成形体の表面処理を実施する表面処理空間を含むことを特徴とする、前記非導電性成形体の表面処理装置。

F-Term (10)：

4F073AA01 , 4F073AA02 , 4F073BA08 , 4F073BB01 , 4F073CA26 , 4F073CA28 , 4F073CA31 , 4F073HA09 , 4F073HA12 , 4F073HA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

コロナ放電処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-228520 Applicant：積水化学工業株式会社, 株式会社ハイデン研究所
パルス電源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-159354 Applicant：株式会社明電舎
特開平4-328135

Show all

Return to Previous Page