高周波誘導結合プラズマ生成装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：永井冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002129714
Publication number (International publication number)：2003323998
Application date： May. 01, 2002
Publication date： Nov. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】プラズマ領域の拡大および均一なプラズマの形成が可能な高周波誘導結合プラズマ生成装置の提供。【解決手段】プラズマ室ボディ3および励起コイル6を囲むように軟磁性体の磁路構造体7を設ける。励起コイル6で形成された高周波磁界の磁束線20は、磁路構造体7のコア部7Aの設けられたプラズマ室ボディ3の上端面からプラズマ室2に導入され、プラズマ室2を交差した後に側面リターン部7Bへと導かれる。磁束線20は、帰還経路である側面リターン部7Bおよび背面リターン部7Cの内部を通ってコア部7Aへと戻る。その結果、磁束線20がプラズマ室2内の広い領域に均一に分布し、均一なプラズマをより広い空間領域に形成することができる。

Claim (excerpt)：

プラズマが形成される筒状のプラズマ生成室と、高周波磁界を形成する励起コイルと、前記プラズマ生成室の端面から側面へと前記高周波磁界の磁束線を導き、前記側面から前記端面へと帰還する磁束線の磁路が形成される磁路構造体とを備えたことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ生成装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 , H01J 27/16 , H01J 37/08 , H01L 21/3065

FI (4)：

H05H 1/46 L , H01J 27/16 , H01J 37/08 , H01L 21/302 101 C

F-Term (8)：

5C030DD01 , 5C030DE07 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB07 , 5F004BB13 , 5F004BD04 , 5F004BD05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

透磁コアを有する誘導結合型-平面状プラズマの発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-295826 Applicant：株式会社アドテック
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-092511 Applicant：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理用の大規模な誘導プラズマを発生させる方法及び装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平11-521032 Applicant：ユーロピアンコミュニティ

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