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J-GLOBAL ID:200903087213326108

プラズマ処理用の大規模な誘導プラズマを発生させる方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 伊東 忠彦 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1999521032
Publication number (International publication number):2000510643
Application date: Oct. 07, 1998
Publication date: Aug. 15, 2000
Summary:
【要約】装置(12)は、誘導結合によりチャンバー内でプラズマを発生させ若しくは持続させるプラズマ処理チャンバー(10)のフィールドアドミッション窓(22)を通して時間変化磁界を発生する。前記装置は、窓に対して若しくは窓に近接して適用されるようにされた単磁極面構造(26a、260a)を有し、大きさ及び形がフィールドアドミッション窓に実質的に適合する活性フィールド放出領域を有する磁気コア(26;260)と、 全単磁極面構造にわたって実質的に均一に分布した時間変化磁界を発生させる磁気コアと関連するインダクタ手段(28)とから成る。前記装置は、プラズマ処理チャンバーの欠かせない部分として形成される。さらに本発明は、例えば時間変化磁界発生装置と協力するための二つ以上のフィールドアドミッション窓を有するプラズマ処理チャンバーにも関する。
Claim (excerpt):
誘導結合によりチャンバー内でプラズマを発生させ若しくは持続させるプラズマ処理チャンバー(10)のフィールドアドミッション窓(22)を通して時間変化磁界を発生させる装置(12)であって、 窓に対して若しくは窓に近接して適用されるようにされた単磁極面構造(26a;260a)を有し、大きさ及び形が実質的にフィールドアドミッション窓に適合する活性フィールド放出領域を有する磁気コア(26;260)と、 全単磁極面構造にわたって実質的に均一に分布した時間変化磁界を発生される磁気コアと関連するインダクタ手段(28)とから成ることを特徴とする装置。
IPC (5):
H05H 1/46 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (6):
H05H 1/46 A ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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