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J-GLOBAL ID:200903038644213555

汚濁水処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中谷 武嗣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003104989
Publication number (International publication number):2003326289
Application date: Jul. 21, 1999
Publication date: Nov. 18, 2003
Summary:
【要約】【課題】 浄化率が高く、二次公害が発生せず、産廃処理のための装置が不要で、設置のために広いスペースを必要とせず、コスト安な、汚濁水処理装置を提供する。【解決手段】汚濁水浄化ラインに、有効微生物を吸着物質に吸着させて保持する反応槽14,15と、汚濁原水を反応槽14,15中に散水噴射して流過させるための散水噴射装置18と、を設ける。有効微生物は予め採取された汚濁原水に対する分解浄化作用の好適性により作成又は検索して特定され、作成又は検索して特定された有効微生物を培養する培養槽を、汚濁水浄化ラインとは別に設けたものである。
Claim (excerpt):
汚濁水浄化ラインに、有効微生物を吸着物質に吸着させて保持する反応槽と、汚濁原水を該反応槽中に散水噴射して流過させるための散水噴射装置と、を設け、上記有効微生物は予め採取された上記汚濁原水に対する分解浄化作用の好適性により作成又は検索して特定され、作成又は検索して特定された該有効微生物を培養する培養槽を、上記汚濁水浄化ラインとは別に設けたことを特徴とする汚濁水処理装置。
IPC (4):
C02F 3/04 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/34 ,  C12N 1/20
FI (5):
C02F 3/04 ,  C02F 3/10 A ,  C02F 3/34 Z ,  C12N 1/20 D ,  C12N 1/20 F
F-Term (23):
4B065AA01X ,  4B065AA04X ,  4B065AA12X ,  4B065AA15X ,  4B065AA24X ,  4B065AA41X ,  4B065BD22 ,  4B065BD23 ,  4B065CA54 ,  4D003AA01 ,  4D003AB12 ,  4D003DA03 ,  4D003DA15 ,  4D003DA30 ,  4D003EA01 ,  4D003EA14 ,  4D003EA17 ,  4D003EA23 ,  4D003EA24 ,  4D003EA25 ,  4D003EA30 ,  4D040DD03 ,  4D040DD24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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