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J-GLOBAL ID：200903054666887598

高濃度排水の微生物処理方法及び装置

Inventor：
永岡 賢三

About 永岡 賢三

, 
丸山 外弘

About 丸山 外弘


Applicant, Patent owner：
エンダイ産業株式会社

About エンダイ産業株式会社


Agent (1)： 永田 久喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000142507
Publication number (International publication number)：2001025782
Application date： May. 15, 2000
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：
【要約】【課題】 養豚排水や食品工業排水など高濃度のBOD成分やノルヘキ成分を含む排水を、希釈や固形分除去などの前処理なしに、有効に処理する方法及び装置を提供する。【解決手段】 BOD成分やノルヘキ成分を高濃度に含む排水を、石英粗面岩の破砕品を充填した高速散水濾床槽に通して好気的処理と弱嫌気的処理を行ない、該散水処理水を活性汚泥槽で曝気して好気的処理を行ない、更にその活性処理水を高速散水濾床槽に供して循環処理する。この循環処理を必要に応じて更に複数段繰り返して排水の浄化を行なう。
Claim (excerpt)：
BOD及びノルマルヘキサン抽出成分を高濃度に含む排水を、夾雑物を除いたのち濾材として石英粗面岩の破砕品を充填した高速散水濾床槽に通して好気的処理と弱嫌気的処理を行ない、該散水処理水を活性汚泥槽で曝気して好気的処理を行ない、更にその活性処理水を高速散水濾床槽に供して循環処理するとともに、活性処理水の一部を他の活性汚泥槽に送液して他の高速散水濾床槽との間で循環処理してBOD及びノルマルヘキサン抽出成分の濃度を低減させ、この循環処理を必要に応じて更に複数段繰り返して排水の浄化を行なうことを特徴とする高濃度排水の微生物処理方法。
IPC (12)：
C02F 3/04 ZAB ,  C02F 1/461 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/30 ,  C02F 3/34 ,  C02F 3/34 101 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/04 ,  C12N 1/00 ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:07 ,  C12R 1:38
FI (10)：
C02F 3/04 ZAB ,  C02F 3/10 A ,  C02F 3/30 B ,  C02F 3/34 Z ,  C02F 3/34 101 B ,  C12M 1/00 H ,  C12M 1/04 ,  C12N 1/00 S ,  C12N 1/20 A ,  C02F 1/46 101 C
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (21)
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