Pat
J-GLOBAL ID：200903038954123769

パターン生成装置およびパターン形状評価装置

Inventor：
豊田 康隆

About 豊田 康隆

, 
栄井 英雄

About 栄井 英雄

, 
松岡 良一

About 松岡 良一


Applicant, Patent owner：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

About 株式会社日立ハイテクノロジーズ


Agent (2)： 井上 学 ,  戸田 裕二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008031314
Publication number (International publication number)：2009194051
Application date： Feb. 13, 2008
Publication date： Aug. 27, 2009
Summary：
【課題】 設計データや良品パターンを参照パターンとして、電子デバイスのパターン形状を評価する方法があるが、設計データや良品パターンでは、電子デバイスの製造条件に適合した形状を正確に定義することが困難であり、パターンの形状を高精度に評価することができない。【解決手段】 電子デバイスの回路パターンの形状を評価する方法であって、少なくとも2つ以上の回路パターンの輪郭データから回路パターンの輪郭分布データを生成する手段と、前記輪郭分布データから、パターンの形状評価に用いる参照パターンを生成する手段と、前記参照パターンと評価対象パターンの比較によってパターンの形状を評価する手段を有することを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
電子デバイスの回路パターンの形状評価に利用する参照パターンを生成する装置であって、少なくとも2つ以上の回路パターンの輪郭データから回路パターンの輪郭分布データを生成する輪郭分布データ生成手段と、前記輪郭分布データから、パターン検査に用いる参照パターンを生成する参照パターン生成手段と、を有することを特徴としたパターン生成装置。
IPC (2)：
H01L 21/66 ,  G01N 23/225
FI (2)：
H01L21/66 J ,  G01N23/225
F-Term (20)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA12 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2G001QA01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB05 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ15 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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