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J-GLOBAL ID：200903039088789287

欠陥参照システムによる自動パターン分類方法

Inventor：
ハーヴェイ ステファニー

About ハーヴェイ ステファニー

, 
テリー リーズ

About テリー リーズ


Applicant, Patent owner：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

About アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド


Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000216171
Publication number (International publication number)：2001068518
Application date： Jul. 17, 2000
Publication date： Mar. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 製品において検査された欠陥の原因を特定するための方法および装置を得ることを目的とする。【解決手段】 関連する欠陥特徴と、信頼性情報も含めて、ウエハが通過したプロセスツールに関する情報とに基づいて、数列のようなシンボルの列によって、半導体基板表面上の欠陥のような物品の特徴を定性的に識別するための方法が提供される。実施形態では、ウエハ上の欠陥が、発見され、(例えば、光学的精査、SEM、EDS、AFMなどによって)検査された後、欠陥の寸法、材料組成、色、ウエハ表面上の位置のような欠陥のそれぞれの定量的な属性を定性的なカテゴリー内に一般化すること、識別のために数値シンボルをそれぞれの属性に割り当てること、および、シンボルを予め定められた方法で列の中に配置することを含む。
Claim (excerpt)：
物品の特徴を分類する方法であって、(a)特徴の属性を決定する工程と、(b)それぞれのカテゴリーが、属性に対応する複数のデータベースオブジェクトの中の1つのサブセットであり、それぞれの属性を、1つかまたはそれ以上のカテゴリーに対応づけることによって、その属性を一般化する工程と、(c)それぞれのカテゴリーにシンボルを割り当てる工程と、(d)カテゴリーのシンボルを予め定められた列の中に配置して、その特徴に対する識別子を形成する工程と、(e)その識別子をデータベースに記憶する工程と、を含む方法。
FI (2)：
H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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