Pat
J-GLOBAL ID：200903039422917313

青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材及びそのレジスト画像形成方法

Inventor：
浦野 年由

About 浦野 年由

, 
亀山 泰弘

About 亀山 泰弘


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002294622
Publication number (International publication number)：2004086122
Application date： Oct. 08, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：
【課題】青紫色領域のレーザー光に対して高感度であると共に、黄色灯下でのセーフライト性に優れ、更に膜厚を上げても感度が低下しない青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法を提供する。【解決手段】被加工基板上に青紫色レーザー感光性レジスト材層を有し、その上に保護層を有する画像形成材であって、該感光性レジスト材層が390〜430nmの波長域に分光感度の極大ピークを有すると共に、波長410nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S410 〕が10000μJ/cm2 以下であり、且つ、波長410nmにおける画像形成可能な該最小露光量〔S410 〕の波長450nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S450 (μJ/cm2 )〕に対する比〔S410 /S450 〕が0.1以下である、青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材、及び、該画像形成材の感光性レジスト材層を波長390〜430nmのレーザー光により走査露光した後、現像処理するレジスト画像形成方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
被加工基板上に青紫色レーザー感光性レジスト材層を有し、その上に保護層を有する画像形成材であって、該感光性レジスト材層が390〜430nmの波長域に分光感度の極大ピークを有すると共に、波長410nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S410 〕が200μJ/cm2 以下であり、且つ、波長410nmにおける画像形成可能な該最小露光量〔S410 〕の波長450nmにおける画像形成可能な最小露光量〔S450 (μJ/cm2 )〕に対する比〔S410 /S450 〕が0.1以下であることを特徴とする、青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材。
IPC (3)：
G03F7/027 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26
FI (3)：
G03F7/027 501 ,  G03F7/11 501 ,  G03F7/26 501
F-Term (34)：
2H025AA01 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025BF00 ,  2H025BG00 ,  2H025CA03 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA39 ,  2H025CB10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096LA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (21)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM