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J-GLOBAL ID：200903067309825686

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  武元 一樹
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997208864
Publication number (International publication number)：1999052575
Application date： Aug. 04, 1997
Publication date： Feb. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 感度、解像度、耐熱性、残膜率、塗布性などの諸性能に優れ、特にプロファイルに優れた、化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、ヒンダードピペリジン骨格、例えば次式(I)(Rは、水素、無置換の又は置換されたアルキル、又はアルカノイルを表す)の骨格を有するヒンダードアミン化合物(C)を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、ヒンダードピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 化学増幅型ポジレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-172414   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-314061   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特表平7-508840
  
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-312722   Applicant：富士通株式会社
• α,β-不飽和ニトリルを有する脂環式多環族とメタクリレート誘導体との共重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173129   Applicant：富士通株式会社
• 特表平7-508840