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J-GLOBAL ID：200903039484495997

ロードポート

Inventor： 村田 正直 ,  及部 博之 ,  田中 幹 ,  南平 善太 ,  高岡 俊志 ,  佐伯 弘明 ,  松島 圭一
Applicant, Patent owner： 神鋼電機株式会社 ,  東京エレクトロン株式会社
Agent (2)： 志賀 正武 (外9名) ,  志賀 正武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998091972
Publication number (International publication number)：1999288991
Application date： Apr. 03, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】 怪我などを防いで安全性の高い構造にした半導体製造装置におけるロードポートを提供する。【解決手段】 キャリア11を装置開口16に向かって移動するキャリア置台14を移動させるキャリア置台移動手段18を、キャリア11が装置開口16に当接する直前に到達するまで、キャリア置台14を小さい弱い力で移動させ、その後、装置開口16に向かってキャリア置台14を大きい力で移動させる圧力調整手段26を設けた。

Claim (excerpt)：

半導体製造装置におけるウエハを収納したキャリアを装置開口に向かって移動するキャリア置台を備えた半導体製造装置におけるロードポートにおいて、前記キャリアが前記装置開口との間に所定の微少な間隔をおいた位置に到達するまで前記キャリア置台を小さい力で移動させ、その後、前記装置開口に向かって前記キャリア置台を前記開口の直前に到達するまでよりも大きい力で移動させる手段、を備えたことを特徴とするロードポート。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/07

FI (2)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/07 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 半導体加工装置のためのローディング及びアンローディング用ステーション
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-068465   Applicant：イェノプティックアクチェンゲゼルシャフト
• 特開昭60-133179
  
• 流体アクチュエータ作動装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-036232   Applicant：豊興工業株式会社
• 半導体製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-149712   Applicant：国際電気株式会社
• 真空処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-112398   Applicant：日新電機株式会社
• ハンドリングアーム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-080174   Applicant：東京エレクトロン株式会社