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J-GLOBAL ID:200903039624993640

光源装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  柴田 昌聰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006013013
Publication number (International publication number):2007193230
Application date: Jan. 20, 2006
Publication date: Aug. 02, 2007
Summary:
【課題】SC光パルス列の繰り返し周波数を可変にできる光源装置を提供する。【解決手段】光源装置1aは、パルス幅が数フェムト秒といった超短パルス光である光パルス列P1を出射するパルス光源2と、パルス光源2に光結合され、光パルス列P1を受けてSC光パルス列P2を出射する光ファイバ11と、SC光パルス列P2の繰り返し周波数を可変にするための時分割多重処理部3とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光パルス列を出射する種光源と、 前記種光源に光結合され、前記光パルス列を受けてスーパーコンティニューム光(SC光)を含むSC光パルス列を出射する光ファイバと、 前記SC光パルス列の繰り返し周波数を可変にするための周波数可変手段と を備えることを特徴とする、光源装置。
IPC (1):
G02F 1/383
FI (1):
G02F1/383
F-Term (6):
2K002AB27 ,  2K002BA02 ,  2K002DA10 ,  2K002HA23 ,  2K002HA26 ,  2K002HA31
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (11)
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