Pat
J-GLOBAL ID:200903039710060133
大面積プラズマ生成用アンテナ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小川 信一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001280285
Publication number (International publication number):2003086581
Application date: Sep. 14, 2001
Publication date: Mar. 20, 2003
Summary:
【要約】【課題】大面積にわたり高密度且つより均一なプラズマを発生させ、例えば大面積の太陽電池、液晶などの製膜や半導体その他のエッチングなどに適用することのできる大面積プラズマ生成用アンテナを提供する。【解決手段】柱状の導電体からなる複数のアンテナ素子6を、交互に給電方向を逆にして平行的且つ面状に配置したアレイアンテナ2からなり、アンテナ素子6は、いずれも表面を誘電体8で覆ったものである。
Claim (excerpt):
柱状の導電体からなる複数のアンテナ素子を、交互に給電方向を逆にして平行的に且つ面状に配置したアレイアンテナからなり、前記アンテナ素子は、いずれも表面を誘電体で覆ったことからなる大面積プラズマ生成用アンテナ。
IPC (4):
H01L 21/31
, C23C 16/509
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
FI (4):
H01L 21/31 C
, C23C 16/509
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 B
F-Term (24):
4K030FA03
, 4K030JA01
, 4K030KA15
, 4K030KA30
, 4K030LA16
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004BB16
, 5F004BC08
, 5F004BD04
, 5F004DA00
, 5F004DB02
, 5F045AC01
, 5F045AE15
, 5F045AE17
, 5F045AE19
, 5F045BB01
, 5F045BB08
, 5F045CA13
, 5F045CA15
, 5F045DP11
, 5F045EH02
, 5F045EH17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-291712
Applicant:アネルバ株式会社
-
堆積膜形成方法および堆積膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-166973
Applicant:キヤノン株式会社
-
プラズマCVD装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-176188
Applicant:株式会社リコー
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