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J-GLOBAL ID:200903039748209718

硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003279264
Publication number (International publication number):2005042050
Application date: Jul. 24, 2003
Publication date: Feb. 17, 2005
Summary:
【課題】硬化性シリコーン組成物を提供する。【解決手段】(i)ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、(ii)ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも2個有するオルガノヒドロジェンポリシロキサン又はヒドロシラン化合物、(iii)ケイ素原子と結合したアルケニル基と水素原子を有するオルガノポリシロキサン、(iv)ヒドロシリレーション用触媒成分であって、(1)ヒドロシリレーション用触媒及び抑制剤としてのオニウム塩を含有するもの、又は(2)ヒドロシリレーション用触媒と該オニウム塩との反応生成物から選ばれるものからなる硬化性シリコーン組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt):
次の(i)、(ii)および(iv)の成分を含有するか、または次の(iii)および(iv)の成分を含有する、硬化性シリコーン組成物: (i)ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン; (ii)ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも2個有するオルガノヒドロジェンポリシロキサン又はヒドロシラン化合物; (iii)ケイ素原子と結合したアルケニル基と水素原子を有するオルガノポリシロキサン; (iv)ヒドロシリレーション用触媒成分であって、(1)ヒドロシリレーション用触媒及び抑制剤としてのオニウム塩を含有するもの、又は(2)ヒドロシリレーション用触媒と該オニウム塩との反応生成物から選ばれるもの。
IPC (6):
C08L83/07 ,  C08L83/05 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027
FI (6):
C08L83/07 ,  C08L83/05 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/029 ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R
F-Term (20):
2H025AA06 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC19 ,  2H025BC78 ,  2H025BD48 ,  2H025BE00 ,  2H025CA48 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  4J002CP04X ,  4J002CP12W ,  4J002EW176 ,  4J002FD010 ,  4J002FD206 ,  4J002GQ01 ,  4J002GQ05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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