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J-GLOBAL ID:200903039776520526

光導波路の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 光石 俊郎 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004151360
Publication number (International publication number):2005331797
Application date: May. 21, 2004
Publication date: Dec. 02, 2005
Summary:
【課題】 上部クラッド層、下部クラッド層の熱膨張係数差に起因する応力の水平方向、垂直方向での不整合を抑圧し、光学特性をTE偏波及びTM偏波で整合させることができる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 軟化温度がTiである下部クラッド層2の上に形成した軟化温度がTciのコア3bを、温度TがTi<T<Tciとなるような温度Tで熱処理を行うことにより前記コア3bの一部又は全部を下部クラッド層2に沈み込ませる工程を有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
1≦i≦N、軟化温度Ti<軟化温度Tciとした場合の1乃至N層の光導波路の製造方法であって、 基板上に軟化温度Tiの第iクラッド層となるガラス膜を成膜する工程と、軟化温度Tciの第iコアとなるガラス膜を成膜する工程と、前記第iコアとなるガラス膜をパターン化して導波路パターンを形成する工程により第i層導波路を作製する工程を有するとともに、 任意の第i層導波路を作製する工程のうち少なくとも一工程においては、前記第iコアとなるガラス膜をパターン化して導波路パターンを形成する工程の後に、Ti<T<Tciなる温度Tにて基板全体に熱処理を施し、第iコアを第iクラッド層に沈ませることを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (1):
G02B6/13
FI (1):
G02B6/12 M
F-Term (9):
2H047KA04 ,  2H047KA12 ,  2H047KB04 ,  2H047LA09 ,  2H047PA04 ,  2H047PA05 ,  2H047PA24 ,  2H047QA04 ,  2H047TA41
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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