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J-GLOBAL ID：200903098826869203

光導波路及びその製造方法並びに光導波路デバイス

Inventor：
井出 聡

About 井出 聡


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003091834
Publication number (International publication number)：2004301911
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：
【課題】光導波路において、クラック及び気泡の発生を抑えながら、コア層(導波路コア)の沈み込みを抑えることができるようにする。【解決手段】基板上に下クラッド層11,コア層12,上クラッド層13を有し、コア層12が上クラッド層13及び下クラッド層11に埋め込まれるように形成される光導波路であって、下クラッド層11を、有機ソースとしてトリアルキルシリル系化合物を用いて形成されるシリカガラス系材料によって、軟化温度が上クラッド層13の軟化温度よりも所定温度以上高くなるように構成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基板上に下クラッド層,コア層,上クラッド層を有し、前記コア層が前記上クラッド層及び前記下クラッド層に埋め込まれるように形成される光導波路であって、 前記下クラッド層が、有機ソースとしてトリアルキルシリル系化合物を用いて形成されるシリカガラス系材料によって、軟化温度が前記上クラッド層の軟化温度よりも所定温度以上高くなるように構成されることを特徴とする、光導波路。
IPC (3)：
G02B6/12 ,  G02B6/13 ,  G02F1/01
FI (3)：
G02B6/12 N ,  G02F1/01 C ,  G02B6/12 M
F-Term (17)：
2H047KA04 ,  2H047NA01 ,  2H047PA05 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA04 ,  2H047TA22 ,  2H047TA41 ,  2H079AA06 ,  2H079AA12 ,  2H079BA03 ,  2H079CA04 ,  2H079DA17 ,  2H079EA03 ,  2H079EB27 ,  2H079JA00 ,  2H079JA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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