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J-GLOBAL ID：200903040277033710
薄膜磁気ヘッドの製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三浦 邦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003198287
Publication number (International publication number)：2005038479
Application date： Jul. 17, 2003
Publication date： Feb. 10, 2005
Summary：
【目的】カップリング磁界Hin及び磁気抵抗変化率ΔR/Rの改善を図れる薄膜磁気ヘッドの製造方法を得る。【構成】薄膜磁気ヘッドを構成する複数の層のいずれかの層からなる第1特定層上にこの第1特定層とは別の第2特定層を積層形成する際に、不活性ガス雰囲気中でプラズマ処理を行ない、第1特定層界面を活性化させるステップと、プラズマ処理終了直後に酸素雰囲気中又は不活性ガスと酸素による混合ガス雰囲気中で、活性化させた第1特定層界面に酸素を吸着させるステップとを有する表面改質工程と;表面改質工程により酸素を吸着させた第1特定層界面上に、第2特定層を成膜する工程と;を同一の真空チャンバー内で連続して行なう。【選択図】 図6
Claim (excerpt)：
薄膜磁気ヘッドを構成する複数の層のいずれかの層からなる第1特定層上に、この第1特定層とは別の第2特定層を積層形成する際に、
純Ar雰囲気中でプラズマ処理を行ない、前記第1特定層界面を活性化させるステップと、前記プラズマ処理終了直後に酸素雰囲気中あるいは酸素と不活性ガスによる混合ガス雰囲気中で、前記活性化させた第1特定層界面に酸素を吸着させるステップとを有する表面改質工程と;
前記表面改質工程により酸素を吸着させた第1特定層界面上に、前記第2特定層を成膜する工程と;
を同一の真空チャンバー内で連続して行なうことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (3)：
G11B5/39
, H01L43/08
, H01L43/12
G11B5/39
, H01L43/08 Z
, H01L43/12
5D034BA02
, 5D034BA04
, 5D034CA08
, 5D034DA07
Cited by applicant (3)
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スピン・バルブ
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2001-198254
Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
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スピンバルブ型巨大磁気抵抗薄膜の製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2001-278723
Applicant：アネルバ株式会社
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スピンバルブ膜の製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2000-092546
Applicant：ティーディーケイ株式会社
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